# 三星晶圆代工瞄准1nm级节点,High NA EUV商业化进程提速
## 制程竞赛新焦点:High NA EUV从研发走向量产 据凤凰网科技报道,三星晶圆代工部门计划在1nm级制程节点实现High NA EUV(高数值孔径极紫外光刻)技术的商业应用。
## 制程竞赛新焦点:High NA EUV从研发走向量产 据凤凰网科技报道,三星晶圆代工部门计划在1nm级制程节点实现High NA EUV(高数值孔径极紫外光刻)技术的商业应用。这一消息表明,在全球先进制程竞争进入亚纳米尺度的关键阶段,三星正试图通过引入下一代光刻设备来巩固其技术地位。High NA EUV被视为突破现行EUV技术物理极限的重要路径,其商业化进程直接关系到1nm级芯片的量产效率与成本控制。 值得关注的是,High N