# 中国光刻胶自主量产迎新进展:李少平团队实现进口替代“破冰”
2026年7月3日,据荆楚网报道,由李少平领衔的科研团队在光刻胶领域取得关键突破,成功实现自主量产,替代了此前依赖进口的关键材料。
2026年7月3日,据荆楚网报道,由李少平领衔的科研团队在光刻胶领域取得关键突破,成功实现自主量产,替代了此前依赖进口的关键材料。这一进展被业界视为国产半导体材料“破冰”的又一重要信号。光刻胶是芯片制造光刻工艺的核心耗材,其国产化率长期处于较低水平,此次事件或为国内晶圆厂的供应链安全提供新的支撑。 ## 国产光刻胶量产背后的产业逻辑 光刻胶作为半导体制造中图形转移的关键材料,直接决定芯片制程的精度与良率。目前,全球光刻胶市场主要由日本和