# 美智库呼吁扩大光刻设备禁售 中国加速囤货引发关注
## 事件背景:出口管制焦点转向浸没式DUV 据e南洋报道,美国智库近期呼吁进一步限制向中国出口浸没式DUV光刻设备,与此同时,中国正在加速囤积光刻机。
## 事件背景:出口管制焦点转向浸没式DUV 据e南洋报道,美国智库近期呼吁进一步限制向中国出口浸没式DUV光刻设备,与此同时,中国正在加速囤积光刻机。这一动态表明,围绕半导体制造设备的出口管制博弈正在持续升温。 此前多轮制裁主要针对极紫外(EUV)光刻机,而浸没式DUV设备长期处于相对模糊的管制地带。若美方采纳智库建议,将管制范围扩展至浸没式DUV,可能对全球半导体设备供应链产生新的扰动。需要说明的是,本次新闻仅确认了“智库呼吁”和“