三大存储厂聚焦“散热”攻关:热管理技术或成下一代HBM核心赛点
在人工智能算力需求持续爆发的背景下,高性能内存(HBM)的散热问题正成为行业焦点。
在人工智能算力需求持续爆发的背景下,高性能内存(HBM)的散热问题正成为行业焦点。据财联社7月30日报道,全球三大存储芯片原厂——三星、SK海力士、美光——已全面打响“散热”攻关战,热管理技术被提至下一代HBM核心竞争力高度。这一动向折射出,随着AI芯片功耗密度攀升,从芯片封装到系统级散热的技术路径正迎来关键变革。
内存瓶颈变身热管理战场
HBM(高带宽内存)通过堆叠DRAM裸片与逻辑芯片实现超高带宽,是AI加速器(如AMD MI系列、NVIDIA H/B系列)不可或缺的搭档。然而,堆叠结构导致热量在狭小空间内积聚,传统风冷或简单散热片已难以满足持续高负载运转时的温度控制需求。三大存储厂此番密集攻关,显示出HBM的热管理能力正在从“辅助设计”演变为“基础能力”——过热不仅会影响芯片频率与稳定性,更可能直接限制AI集群的部署密度与运行时长。 从行业背景看,据市场研究机构Yole Group估算,2024年全球HBM市场规模约为63亿美元,而到2026年有望突破230亿美元,年复合增长率超过90%。在这个年均接近翻倍的市场中,谁能在保持带宽提升的同时解决散热瓶颈,谁就可能获得AI芯片客户的优先订单。
AI芯片功耗攀升倒逼工艺革新
散热挑战与AI芯片自身的功耗增长密切相关。目前,单颗AI加速器的典型功耗已从300W区间跃升至700W以上,而与之配套的HBM3/HBM3E内存堆叠的功耗密度也相应增大。以AMD的Instinct MI300系列为例,其整合了HBM3内存与CDNA架构计算芯粒,热设计功耗(TDP)达到约700W级别;类似的,NVIDIA H100的TDP也为700W,而更高端的B200系列已突破1000W大关。在这一趋势下,封装内热管理技术不再只是“加分项”,而是保证产品可靠性和性能释放的刚需。 目前,三大存储厂各自探索的技术路线包括:引入石墨烯或金刚石导热界面材料、优化硅中介层热通道、开发液冷兼容封装方案等。据行业媒体引述供应链消息,部分厂商已在实验室验证了基于微流体通道的HBM散热原型,但实际量产时间和良率数据暂缺可核验信息。外部分析师认为,这些技术若在2026年底前实现商业化,可能使HBM3E的连续工作温度降低10至15摄氏度,从而为AI集群的能效比提升提供约5%的贡献空间——该影响幅度有待后续产品实测数据进一步确认。
产业影响:从部件到生态的连锁反应
热管理技术的竞争不仅关乎存储厂商的成败,更可能重塑AI算力基础设施的供应链格局。一方面,散热材料与封装设备供应商迎来新机遇,例如导热凝胶、均热板、液冷管路的定制化需求有望显著增加;另一方面,服务器OEM和云服务商在建设AI数据中心时,需要重新评估机柜级散热方案,例如是否全面转向液冷部署。 值得关注的是,AMD、英特尔等AI芯片厂商也正密切关注HBM散热进展。若三大存储厂能较快推出高效热管理方案,将有助于降低AI芯片的整体散热设计复杂度,从而加快芯片迭代速度;反之,若散热问题长期未解,则可能成为AI算力增长的新瓶颈。据IDC在2025年发布的预测,全球AI服务器出货量在2026至2028年间的年复合增长率可能维持在30%至40%之间,这意味着对HBM的冷却需求将同步高速攀升。 总而言之,这场由三大存储厂发起的“散热攻关战”,是AI堆叠技术演进过程中的必经节点。热管理正从幕后走向台前,未来HBM产品规格表中,导热系数、热阻值和最大工作温度等参数,可能将与带宽、容量并列,成为芯片选型的核心指标。
数据参考
- 据Yole Group估算,2024年全球HBM市场规模约63亿美元,2026年有望突破230亿美元。(Yole Group,2024)
- 行业背景参考:NVIDIA H100与AMD Instinct MI300系列的热设计功耗(TDP)均为700W左右。(公司产品规格,2023-2024)
- NVIDIA B200系列TDP已超过1000W,来源为行业技术论坛总结报告。(WCCFtech等引述,2024年数据)
- 据IDC 2025年预测,2026至2028年全球AI服务器出货量年复合增长率可能在30%至40%之间。(IDC AI服务器市场追踪报告,2025)
- 本次新闻来自财联社,发布日期为2026年7月30日,报道内容为三大存储厂聚焦HBM散热技术。 #AI #半导体 #HBM #热管理