# DUV光刻机解锁3nm?中科院GAA晶体管突破引关注
## 绕开EUV的新路径 据新浪财经援引手机新浪网消息,中国科学院在GAA晶体管领域取得重大突破,理论上可通过DUV光刻机制造3nm芯片,从而绕开EUV光刻机。
## 绕开EUV的新路径 据新浪财经援引手机新浪网消息,中国科学院在GAA晶体管领域取得重大突破,理论上可通过DUV光刻机制造3nm芯片,从而绕开EUV光刻机。该报道提及了理论、性能、电流与栅极等关键词,但未披露具体的实验数据、团队负责人或论文发表信息。这一方向若被验证,可能为先进制程提供替代性技术路线。 需要明确的是,上述信息仅为新闻标题与摘要所确认的内容。截至目前,暂缺可核验的官方技术公报或量产时间表。因此,本文对该突破的分析均基于